不吹不黑！被余承东夸上天的自研设备，很可能连28nm芯片都造不出

这几年华为每场发布会都能搅动舆论，余承东站在台上讲国产突破、讲自研设备，台下掌声一片，朋友圈刷屏，不少人看得心潮澎湃，觉得卡脖子这事一夜之间就翻篇了。但今天这篇文章，我想泼点冷水。当然了 ，这不是泼给华为的，是泼给那种赢麻了的用户。因为被余承东夸上天的这些自研设备，很可能连28nm芯片都造不出来。为什么这样说呢？我们接着往下看。 先讲一个老掉牙但特别管用的道理，木桶理论。一只桶能装多少水，不取决于最长的那块板，取决于最短的那块。芯片制造就是一只超级复杂的木桶，造一颗芯片要几百种设备协同作战，光刻、刻蚀、沉积、清洗、离子注入、CMP、量检测，一道工序接一道工序往下走，每道工序的精度都得对得上。最后成品什么水平，不取决于你最先进的那台设备多牛，取决于最差的那台有多差。这个道理放到任何一条产线上都成立。 好，道理讲完了，那么我们就看数据。据知名机构 Yole 整理过一份我国主要国产设备的技术能力图，红黄绿三色标得清清楚楚，绿色是量产、黄色是认证测试、红色是研发。把这张图拆开看，滋味很复杂。 先说让人高兴的国产设备，我们在刻蚀、沉积、清洗这几大类设备上，已经稳稳做到了5nm水平的量产，这在全球都排得上号的。中微、北方华创这些公司这几年的进步有目共睹，这是谁也抹不掉的成绩。再看大盘，绝大多数国产设备实现了28nm的稳定量产，14nm、10nm、7nm的认证测试也在往前推。坦率地讲，五年前没人敢想这个进度，这份成绩单值得认可、鼓掌。 可一整张表里，有一项掉队了，那就是光刻机。整张图上唯独光刻这一行，我们还停在90nm的稳定量产水准，现在的情况是我们的40nm在测试，28nm还在研发。这是什么概念呢？刻蚀机我们已经做到5nm水准了，光刻还卡在90nm阶段，中间差了好几代。这就像一支球队，前锋能踢欧冠决赛，门将还在业余联赛守门。 那问题就来了，假如我们现在完全不用国外设备，全用国产设备造芯片，能造到多少纳米的芯片呢？答案很残酷，这取决于光刻机的水平。木桶最短的那块板就是它，别的设备再先进，水也从这儿漏出去。也就是说，全自主产线上我们很可能连 28nm都造不出。这不是别的设备不行，是光刻机还差不少火候。 有人可能纳闷了，为什么光刻机就这么难呢？光刻机是人类精密制造的顶点，一台高端光刻机几十万个零件，牵扯光源、光学、材料、精密机械、控制软件几十个学科，是全球上千家供应商捧出来的科技明珠。别的设备我们几年追一代，光刻机是人家几十年攒下的家底，真不是砸钱就能速成的。承认这一点不丢人，装作不存在才耽误事。 说到这儿估计有人要跟我急，华为不是突破了吗？各种自研各种替代，怎么到你嘴里就不值钱了？华为这几年在产业链上下功夫，带着国内供应商一起攻关，这个贡献没得说，没有它在前面拉一把，国产设备的进度表还得往后推好几年，这点我从不否认。但两件事得分开讲，一是产业协同的进步，二是发布会上的形容词。前者是汗水，后者是修辞。余承东的风格大家都知道，什么词都敢用、什么目标都敢定，振奋人心是真振奋，可期望值拉得太满，回头摔下来也疼。这两年网上那种遥遥领先喊成一片的氛围，我看就有点过热。 当然了，这张表的数据也可能不准，图表里自己都注明了未必精确，但方向骗不了人。光刻这块短板横在那里，整个国产链条的天花板就被它压着。所以接下来我们必须发力光刻机，这不光是上海微电子一家的事，是光源、物镜、双工件台、光刻胶整条生态的事，得当持久战来打，砸钱砸人砸时间，缺一样都不行。同时我也想说，设备造出来只是第一步，进产线过验证、跑良率、被客户真正用起来，那才是见真章的时候，这条路不会短。 总的来说，我们造木桶的手艺已经相当不错，就是最短那块板还没补齐，水装不满。华为的突破值得鼓掌，光刻的短板必须盯紧，两句话一起说，才是对芯片产业真正的负责。我更盼着下一次发布会上，少一点形容词，多一块补齐的短板。板子补上了，桶才算圆。对此，大家认为呢？ 特别